【TechWeb】11月2日消息，據國外媒體報道，華為正計劃在上海建造不使用美國技術的芯片制造工廠。

了解該項目的人知情稱，華為沒有制造芯片的經驗，該廠將由合作伙伴上海集成電路研發中心運營。

知情人士稱，預計該廠將從低端的45納米起步。華為計劃在2021年底之前制造用于“物聯網”設備的28納米芯片，在2022年底之前生產用于5G電信設備的20納米芯片。

據官網介紹，上海集成電路研發中心有限公司（ICRD）成立于2002年，ICRD由中國集成電路相關企業集團和高校聯合投資組建而成。

上海集成電路研發中心位于上海市張江高科技園區，地理位置毗鄰華力微電子和中芯國際。ICRD建有中國12英寸開放式集成電路先進工藝研發和裝備材料試驗平臺，凈化面積超過3000平方米，研發環境及辦理系統和大生產線完全匹配，可實現硅片無沾污進出和工藝流程無縫銜接，加快了技術研發和驗證速度。